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產(chǎn)品名稱(chēng)：
氮化硼超細(xì)研磨分散機(jī)
產(chǎn)品型號(hào)： GMD2000更新時(shí)間： 2026-03-24描述：SGN氮化硼超細(xì)研磨分散機(jī)設(shè)計(jì)*，能夠延長(zhǎng)易損件的使用時(shí)間，因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎?？梢砸粰C(jī)多用，也可以單獨(dú)使用，且粉碎粒度范圍廣，成品粒徑可以進(jìn)行調(diào)整。
產(chǎn)品介紹
一、產(chǎn)品關(guān)鍵詞
氮化硼超細(xì)研磨分散設(shè)備，氮化硼粉末濕法高剪切粉碎，德國(guó)進(jìn)口研磨粉碎設(shè)備，高轉(zhuǎn)速研磨分散機(jī)，改進(jìn)型膠體磨
二、研磨分散機(jī)的設(shè)計(jì)
SGN氮化硼超細(xì)研磨分散機(jī)設(shè)計(jì)*，能夠延長(zhǎng)易損件的使用時(shí)間，因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎?？梢砸粰C(jī)多用，也可以單獨(dú)使用，且粉碎粒度范圍廣，成品粒徑可以進(jìn)行調(diào)整。
三、氮化硼的簡(jiǎn)介
氮化硼由于其特性與石墨相似而質(zhì)地潔白，俗稱(chēng)白石墨，有六方與立方兩種晶型，但通常呈六方結(jié)構(gòu)。在高溫與超高壓的特殊條件下，可將六方結(jié)構(gòu)晶型轉(zhuǎn)化為立方晶型。氮化硼由于機(jī)械強(qiáng)度高，在高溫下無(wú)負(fù)載軟化現(xiàn)象，可作機(jī)械加工車(chē)削。氮化硼使用范圍廣泛，其粉末可作優(yōu)良的潤(rùn)滑劑與脫模劑，合成工程陶瓷材料后可用作熔煉蒸發(fā)金屬的坩堝、 舟皿、液態(tài)金屬輸送管、戰(zhàn)斗機(jī)、火箭起飛噴口，大功率器件底座，半導(dǎo)體元件摻雜源，以及 各種高溫、高壓或高頻的絕緣散熱部件。而立方氮化硼則為近似于金剛石的超硬材料。
四、研磨分散機(jī)的工藝
上海思峻的氮化硼超細(xì)研磨分散機(jī)特別適合于需要研磨分散均質(zhì)一步到位的物料。研磨分散機(jī)為立式分體結(jié)構(gòu)，精密的零部件配合運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn)，運(yùn)行噪音在73DB以下。同時(shí)采用德國(guó)博格曼雙端面機(jī)械密封，并通冷媒對(duì)密封部分進(jìn)行冷卻，把泄露概率降到低，保證機(jī)器連續(xù)24小時(shí)不停機(jī)運(yùn)行。
五、GMD2000系列研磨分散機(jī)的結(jié)構(gòu)
研磨式分散機(jī)是由錐體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。
第yi級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。
第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿(mǎn)足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線(xiàn)式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)?nbsp;在對(duì)輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類(lèi)型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個(gè)很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)工作頭來(lái)滿(mǎn) 足一個(gè)具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下，機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的，因而它對(duì)制造出z終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿(mǎn)足預(yù)期的應(yīng)用。
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六、研磨分散機(jī)的結(jié)構(gòu)
GMD2000研磨分散機(jī)為立式分體結(jié)構(gòu)，有一定輸送能力，可以處理高固含量有一定粘稠度物料，GM2000設(shè)計(jì)了符合漿液流體特性的特殊轉(zhuǎn)子，進(jìn)行物料的推動(dòng)輸送；所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼，機(jī)座采用304不銹鋼；特殊要求如：硬度較大物料，對(duì)鐵雜質(zhì)要求嚴(yán)苛的物料，管道有一定壓力并且需不間斷運(yùn)轉(zhuǎn)的工況，可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷；GMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設(shè)計(jì)，可通冷卻或者升溫介質(zhì)。
七、從設(shè)備角度來(lái)分析，影響分散效果因素有以下幾點(diǎn)
1.研磨頭的形式（批次式和連續(xù)式）（連續(xù)式比批次式要好）
2.研磨頭的剪切速率（越大效果越好）
3.研磨的齒形結(jié)構(gòu)（分為初齒、中齒、細(xì)齒、超細(xì)齒、越細(xì)齒效果越好）
4.物料在分散墻體的停留時(shí)間、研磨分散時(shí)間（可以看作同等電機(jī)，流量越小效果越好）
5.循環(huán)次數(shù)（越多效果越好，到設(shè)備的期限就不能再好了）
線(xiàn)速度的計(jì)算：
剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對(duì)速率。
剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)
由上可知，剪切速率取決于以下因素：
轉(zhuǎn)子的線(xiàn)速率
在這種請(qǐng)況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。
SGN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm
速率V= 3.14 X D（轉(zhuǎn)子直徑）X 轉(zhuǎn)速 RPM / 60
所以轉(zhuǎn)速和分散頭結(jié)構(gòu)是影響分散的一個(gè)z重要因素，研磨分散機(jī)的高轉(zhuǎn)速和剪切率對(duì)于獲得超細(xì)微懸浮液是z重要的。
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